大日本印刷（DNP）開發出了能以十分之一的耗電量生產先進半導體的技術。將面向佳能生產的新方式制造裝置，于2027年量產可支持新一代1.4納米（1納米為十億分之一米）產品的核心構件。人工智能（AI）半導體的制造成本有大幅降低的可能性。

目前，要量產最先進的半導體，需要使用全球只有荷蘭阿斯麥控股（ASML Holdings）生產的極紫外（EUV）光刻機。在晶圓（基板）上繪制電路的“光刻工序”占半導體總制造成本的3至5成。電路越精細，光刻次數就越多，耗電量也隨之增加。一臺EUV光刻機的價格為300億日元左右，給半導體廠商帶來沉重的投資負擔。

而佳能的“納米壓印（Nanoimprint ）”制造裝置采用類似蓋印章的方式在晶圓上制作電路。DNP開發出了相當于精細印章的電路原版“模板（template）” ，最高可用于1.4納米制程。此前該技術無法支持2納米等先進半導體的制造。

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